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我在 GLSL 中实现了一个高斯模糊片段着色器。我了解所有这些背后的主要概念：卷积，使用线性分离 x 和 y，多次通过以增加半径......

不过我还有几个问题：

sigma和radius有什么关系？

我读过 sigma 相当于半径，我看不到 sigma 是如何以像素表示的。或者“半径”只是 sigma 的名称，与像素无关？

如何选择西格玛？

考虑到我使用多次传递来增加 sigma，我如何选择一个好的 sigma 来在任何给定的传递中获得我想要的 sigma？如果得到的 sigma 等于 sigma的平方和的平方根并且 sigma 等于半径，那么获得任何所需半径的简单方法是什么？

内核的合适大小是多少，它与 sigma 有什么关系？

我见过大多数实现都使用 5x5 内核。对于质量不错的快速实现来说，这可能是一个不错的选择，但是还有其他理由选择其他内核大小吗？sigma 与内核大小有何关系？我是否应该找到最好的 sigma 以便我的内核之外的系数可以忽略不计并且只是标准化？

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sigma和radius有什么关系？

我认为您的术语可以根据您的实施情况互换。对于大多数高斯模糊的 glsl 实现，它们使用 sigma 值来定义模糊量。在高斯模糊定义中，半径可以被认为是“模糊半径”。这些术语在像素空间中。

如何选择西格玛？

这将定义你想要多少模糊，这对应于卷积中要使用的内核的大小。较大的值将导致更多的模糊。

NVidia 实现使用 int(sigma*3) 的内核大小。

出于性能考虑，您可以尝试使用较小的内核大小和较高的 sigma 值。这些是可供试验的自由参数，它们定义了用于调制的像素数量以及结果中包含的相应像素的数量。

内核的合适大小是多少，它与 sigma 有什么关系？

根据 sigma 值，您需要选择相应的内核大小。内核大小将确定在卷积期间要采样多少像素，而 sigma 将定义对它们进行调制的程度。

您可能想发布一些代码以获得更详细的解释。NVidia 有一个关于如何构建高斯内核的非常好的章节。请看示例 40-1。

于 2013-07-25T14:28:49.263 回答