我正在创建一些用于光刻的掩模,这些掩模在 4"x4" 的跨度上具有 50 µm 的特征阵列。
将我的蒙版对象隐式表示为填充图案的 SVG 文件是微不足道的:
<!DOCTYPE svg PUBLIC "-//W3C//DTD SVG 1.1//EN" "http://www.w3.org/Graphics/SVG/1.1/DTD/svg11.dtd">
<svg width="4in" xmlns="http://www.w3.org/2000/svg" version="1.1" height="4.25in">
<defs>
<pattern height="0.100000mm" width="0.100000mm" patternUnits="userSpaceOnUse" y="0" x="0" id="tile">
<rect y="0" width="0.100000mm" fill="black" x="0" height="0.100000mm" />
<rect y="0.025000mm" width="0.050000mm" height="0.050000mm" x="0.025000mm" fill="white" />
</pattern>
</defs>
<rect y="0" width="4in" height="4in" x="0" fill="url(#tile)" />
<text font-size="6pt" y="4.1in" x="0.1cm" font-family="Consolas">50 µm squares, 50 µm pitch; tds 3/6/13</text>
</svg>
我们的打印提供商说他们可以获取 EPS 文件。在 Illustrator 中进行从 SVG 到 EPS 的往返可以正常工作,但生成的 EPS 文件仍然隐含表示蒙版特征,并且印刷厂说他们看不到任何东西。我认为我需要明确表示每个功能,而不是使用填充模式。
将矢量填充模式转换为显式渲染的矢量对象的最佳方法是什么(使用 Postscript?)?我可以手动生成 SVG,但天哪,那将是一个巨大的文本文件。