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我正在开始开发用于工作流绘图的 eclipse 插件。现在我必须了解 eclipse 插件的架构。我想知道 GEF、EMF 和 GMF 之间的差异/关系到目前为止，最新的技术是什么？我在哪里可以获得理解材料？

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  1. EMF - Eclipse 建模框架 - 为您提供帮助您创建模型的工具。基本思想是您使用 ecore 定义域模型，然后您可以使用该模型为该模型生成大量代码：域中每个实体的 java 类，具有 getter/setter、侦听功能和许多其他好东西.
  2. GEF - 图形编辑框架 - 是一个使用 MVC 模式在 eclipse 中创建可视化编辑器的框架。它建立在 draw2d 之上，draw2d 是 SWT 之上的“轻量级”绘图框架。GEF不需要使用 EMF 作为其模型，您可以使用任何您喜欢的模型，但是由于 EMF 生成了您通常需要执行 MVC 的代码，因此非常有用。
  3. GMF - 图形建模框架 - 是建立在 EMF 和 GEF 之上的框架。基本上，您创建域模型和视图模型，GMF 生成编辑器的所有代码。

我在 GEF 和 EMF 工作了一年，取得了很好的成果。几个星期以来，我尝试使用 GMF，但无法理解那里的工作原理——学习曲线非常陡峭。我在 GEF 上写了一组教程，并邀请您查看它们。

于 2012-07-26T20:46:35.057 回答